最新の半導体酸化技術を理解するための書籍『半導体の酸化機構と酸化膜』発刊
最新の半導体酸化技術を理解するための書籍
インプレスグループが手がける近代科学社より、2026年3月19日、半導体デバイスにおける酸化技術に焦点を当てた新刊『半導体の酸化機構と酸化膜』が発売されます。本書は公益社団法人 応用物理学会 半導体分野将来基金委員会の監修によるもので、酸化の重要性を深く掘り下げた内容が盛り込まれています。
書籍の特徴と内容
印刷版と電子版があり、どちらも課題の理解と克服に焦点を当てています。特に、SiやSiCに関する酸化メカニズムを主に取り扱い、その特性や重要な現象についての理解を深めることができます。これから半導体デバイスを学ぼうとする学生や研究者にとって、無くてはならない一冊となることでしょう。
酸化システムの理解は、半導体の分野で活躍する技術者や研究者にとって必要不可欠です。そのため、本書は既に業界で活動している専門家だけでなく、これから学ぶ学生にも大きな助けとなることが期待されています。
目次と構成
本書は主に以下の4部から構成されています。
- - 第1部: 序論
- - 第2部: ゲートスタック
- 第3章 SiC MOS
- 第4章 SiGeの酸化とMOS界面特性
- - 第3部: 酸化過程および酸化膜解析
- 第6章 チャージポンピング法で見たSi/SiO2界面欠陥
- 第7章 ESR分光で見る界面欠陥：SiとSiC
- 第8章 共鳴核反応法による酸化膜中の水素分析
- - 第4部: 酸化機構
- 第10章 Si酸化の速度論
- 第11章 SiCの表面酸化機構
- 第12章 SiC酸化の速度論
- 第13章 Geの酸化
各章では、酸化に伴う重要な技術や現象に対する詳細な議論が展開され、科学的理解を深める手助けをします。特に材料の特性や、酸化過程における物理的理解は、応用物理の観点からも重要です。
出版情報と価格
本書はB5判、並製で、全408ページです。印刷版および電子版のいずれも、定価は5,800円（税抜）となります。ISBNコードは、印刷版が978-4-0779-9C3054、電子版が978-4-7649-6134-0C3054です。
各種専門書が豊富にそろう近代科学社の公式ウェブサイトからも購入することができます。一冊の書籍が、新たな技術の扉を開くきっかけとなることでしょう。
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終わりに
半導体技術の進歩は、今後のテクノロジーの発展に大きな影響を与えるため、理解を深めることは非常に重要です。是非、この機会に『半導体の酸化機構と酸化膜』を手に取って、新たな知識の世界に飛び込んでみてはいかがでしょうか。
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