半導体技術の最前線を理解する新刊『シリコンに導入されたドーパントの物理』

株式会社近代科学社は、2025年2月28日に新しい専門書『シリコンに導入されたドーパントの物理』を発行しました。本書は、公益社団法人応用物理学会半導体分野将来基金委員会によって編集されており、半導体デバイスにおけるドーピングの基礎から応用までを深く探る内容となっています。この書籍は、シリコンナノエレクトロニクスやパワー半導体技術など、現代の技術の核心を成す事柄を物理的視点から考察し、不純物ドーピングが引き起こす現象を詳細に説明しています。

内容の特徴と構成

本書は、全366ページの構成で、印刷版と電子版が同価格の5,000円（税抜）で提供されています。内容は、まずドーピングの基礎知識から始まり、さまざまな物理現象を解明することを目指しています。具体的には、シリコン中におけるドーパントの振る舞いや、それに必要な条件、電気的活性化のメカニズムといったテーマが各章で取り上げられています。

第1章では、濃度範囲に応じたドーパント不純物のフォトルミネッセンス評価が詳述されており、ドーパントの発光機構やその評価法を実験的に解説しています。また、第2章では実際のデバイス製造におけるドーパントの現象を具体的に取り上げ、シリコン結晶における酸素や炭素の役割も明らかにしています。

さらに、第3章では、本書の中核を成す不純物原子の活性化プロセスについて掘り下げ、なぜ高温が必要なのかという物理的理由を追求しています。このように基礎から応用までの一貫した流れで、読者が半導体技術の最前線に迫れるように構成されています。

先進的な技術への道

最後の章では、パワー半導体に関する様々な技術と、それに関連するドーピングの歴史、さらには未来への展望が考察されています。この本は、今後の半導体デバイスに関する技術革新や、社会のニーズに応えるための知識を提供する貴重な資料となることでしょう。

近代科学社について

近代科学社は、1959年に設立されて以来、数学や情報工学などの学術専門書を発行し、理工学分野の発展に貢献しています。デジタル技術を活用したオンデマンド出版の先駆者である近代科学社Digitalは、本書の出版を通じて、さらなる知識の普及と広がりを目指しています。あなたもこの機会に半導体技術の深層に触れてみてはいかがでしょうか。

今後の半導体分野の発展に寄与することが期待されるこの新刊は、専門家のみならず、興味のある一般の方々にも一読の価値があります。知識の蓄積として、ぜひ手に取ってみてください。